多晶硅是制備硅太陽電池、各種硅分立器件和各種硅集成電路的基本原料，是發(fā)展太陽 能產(chǎn)業(yè)和信息微電子產(chǎn)業(yè)的戰(zhàn)略物資。

要將1N?2N的工業(yè)多晶硅提純到6N?7N的太陽能級多晶硅和9N?12N電子級的多晶硅，現(xiàn)有的方法有物理方法和化學(xué)方法兩類。

雖然這些方法可以將大多數(shù)金屬雜質(zhì)去除，然而雜質(zhì)分凝提純的物理方法卻不適合于硅中硼和磷雜質(zhì)的去除，因?yàn)榕鹪诠柚械姆帜禂?shù)是0.8，磷是0.35，都接近1，分凝提純的效果很差。

吸附法是利用固體吸附劑來對多晶硅生產(chǎn)中的雜質(zhì)進(jìn)行吸附分離的操作方法，基本原理是基于化合物分子大小和極性的不同來吸附分離的。

多晶硅生產(chǎn)中的硼、磷雜質(zhì)如BCl3、PCl3等是具有相當(dāng)大的偶極矩的不對稱分子，具有很強(qiáng)的極性，強(qiáng)烈地趨向于形成加成化學(xué)鍵，很容易被吸附劑吸附。硼吸附機(jī)理主要是螯合作用，而且大多硼吸附劑主要利用功能基團(tuán)與硼的螯合作用來吸附除硼。磷吸附機(jī)理主要是配位絡(luò)合與離子交換形式的化學(xué)吸附。

總之對吸附劑的一般要求原則有：1)具有大的表面積；2)二具有大的表面活性。?

基于此，海普研發(fā)研發(fā)出多款多晶硅除硼樹脂，海普多晶硅除硼樹脂是一種具有多功能的特種樹脂，其既具有選擇性去除硼、磷雜質(zhì)的功能基團(tuán)，又具有催化反歧化反應(yīng)基團(tuán)，可滿足多晶硅行業(yè)相關(guān)應(yīng)用需求。

HPC-118適用于多晶硅中硼磷雜質(zhì)去除，同時(shí)還可輔助反歧化反應(yīng)。